新型靶材材料的制備工藝具有以下特點：

1. 高純度：新型靶材材料要求高純度，以確保最終產品的性能和一致性。在制備過程中，需要嚴格控制原材料的來源和處理流程，以減少雜質的引入。

2. 精確控制化學成分：新型靶材材料的化學成分需要嚴格控制，以確保最終產品的性能和一致性。在合金或復合材料的制備中，成分的精確控制尤為重要。這通常涉及到精確的配比和均勻的混合過程。

3. 高密度與低孔隙率：新型靶材材料要求高密度和低孔隙率，以提高其物理性能，如強度和導熱性。在燒結或壓制過程中控制適當的溫度和壓力，可以顯著提高靶材的致密性和均勻性。

4. 先進的制備技術：新型靶材材料制備過程中采用先進的制備技術，如化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)等，這些技術能夠實現高純度和高均勻性的薄膜。

5. 熱處理與后處理：新型靶材材料制備過程中需要進行熱處理和后處理，以改善靶材性能。通過控制熱處理的溫度和時間，可以優化靶材的微觀結構和應力狀態，從而提高其性能。此外，后處理步驟，如機械加工和表面處理，也是保證靶材質量和性能的重要環節。

6. 材料特性與性能測試：新型靶材材料制備過程中需要進行材料特性與性能測試，以評估靶材的均勻性和缺陷，如氣孔和夾雜物。密度的測量通常使用水位法或阿基米德原理。

總之，新型靶材材料的制備工藝具有高純度、精確控制化學成分、高密度與低孔隙率、先進的制備技術、熱處理與后處理以及材料特性與性能測試等特點。這些特點確保了新型靶材材料在半導體、光電等領域的廣泛應用。