新型靶材的具體應用領域包括：

1. 半導體領域：新型靶材在半導體領域的應用非常廣泛，如電極、布線薄膜、儲存器電極薄膜、粘附薄膜、電容器絕緣膜薄膜等。這些靶材材料包括鋁、銅、金、銀、鈀、鉑、鋁硅合金、鋁硅銅合金等。

2. 磁記錄領域：新型靶材在磁記錄領域的應用也非常重要，如垂直磁記錄薄膜、硬盤用薄膜、薄膜磁頭、人工晶體薄膜等。這些靶材材料包括鈷鉻合金、鈷鉻鉭合金、鈷鉻鉑合金、鈷鉻鉭鉑合金、鈷鉭鉻合金、鈷鉻鋯合金、鈷鉑合金、鈷鈀合金等。

3. 光記錄領域：新型靶材在光記錄領域的應用也非常關鍵，如相變光盤記錄薄膜、磁光盤記錄薄膜、光盤反射薄膜、光盤保護薄膜等。這些靶材材料包括硒化碲、硒化銻、鍺銻碲合金、鍺碲合金、鏑鐵鈷合金、鋱鏑鐵合金、鋱鐵鈷合金、氧化鋁、氧化鎂、氮化硅等。

4. 顯示領域：新型靶材在顯示領域的應用也非常重要，如透明導電薄膜、電極布線薄膜、電致發光薄膜等。這些靶材材料包括氧化銦錫、氧化鋅鋁、鉬、鎢、鈦、鉭、鉻、鋁、鋁鈦合金、鋁鉭合金等。

5. 其他應用領域：新型靶材在其他應用領域的應用也非常廣泛，如裝飾薄膜、低電阻薄膜、超導薄膜、工具鍍薄膜等。這些靶材材料包括鈦、鋯、鉻、鈦鋁合金、不銹鋼、鎳鉻合金、鎳鉻硅合金、鎳鉻鋁合金、鎳銅合金、釔鋇銅氧、鉍鍶鈣銅氧等。

總之，新型靶材在電子、磁性、光學、光電和超導薄膜等高新技術和工業領域有廣泛應用，它們是制備薄膜材料的主要技術之一，對于推動相關產業的發展具有重要意義。